Технологии изготовления наноструктур. Газофазная эпитаксия с использованием металлоорганических соединений

Реферат, 06 Ноября 2013, автор: пользователь скрыл имя

Краткое описание


Газофазное эпитаксиальное наращивание на подложке монокристаллических слоев полупроводниковых веществ осуществляется из металлоорганических соединений в реакторе при пониженном давлении. Газофазная эпитаксия(процессам выращивания тонких монокристаллических слоев на монокристаллических подложках) первоначально разрабатывалась для выращивания кремния и арсенида галлия(тройное соединение мышьяка с трехвалентными индием и галлием, соединение переменного состава GaAs), сейчас применяется для выращивания большинства полупроводниковых материалов, используемых в микро- и оптоэлектронике.

Вложенные файлы: 1 файл

Технологии изготовления наноструктур2.docx

— 44.08 Кб (Просмотреть документ, Скачать файл)

Открыть текст работы Технологии изготовления наноструктур. Газофазная эпитаксия с использованием металлоорганических соединений