Получение пленок системы (Sn29Si4,3O66,7)X(In35.5Y4.2O60,3)100-X

Автор работы: Пользователь скрыл имя, 23 Сентября 2013 в 20:53, курсовая работа

Краткое описание

К настоящему времени разработано большое количество методик получения тонких пленок оксидов металлов. Наиболее часто используются такие методы как спекание керамики, химическое осаждение из паровой фазы металлоорганического соединения (пиролиз аэрозоля), золь-гель метод, термическое, катодное и ионно-плазменное распыление, магнетронное распыление, ионно-лучевое распыление. Каждый из этих методов имеет свои преимущества и недостатки.

Содержание

Задание на выпускную квалификационную работу
2
Реферат
4
Введение
6
1 Литературный обзор
7
1.1 Методы получения окисных пленок
8
1.1.1 Керамический метод
10
1.1.2 Метод химического осаждения
11
1.1.3 Золь – гель метод
12
1.1.4 Метод термического напыления
13
1.1.5 Катодное распыление
13
1.1.6 Ионно – плазменное распыление
22
1.2 Структура пленок, полученных различными методами
28
1.3 Механизмы переноса в наногранулированных композиционных материалах металл – диэлектрик
30
1.3.1 Механизм активированного туннелирования (модель Шенга– Абелеса)
30
1.3.2 Прыжковый механизм проводимости по локализованным состояниям диэлектрической матрицы вблизи уровня Ферми (Модель Мотта)

30
1.3.3 Модель неупругого резонансного туннелирования
32
2 Методика эксперемента
36
2.1 Методика получения пленок
38
2.2 Методика проведения температурных исследований электрического сопротивления

38
2.3 Рентгенодифракционные исследования
45
3 Экспериментальные результаты и их обсуждение
48
3.1 Получение пленок системы (Sn29Si4,3O66,7)X(In35.5Y4.2O60,3)100-X
55
3.2
56
3.3

Заключение

Список литературы