Технология получения монокристаллического слитка InP n-типа

Автор работы: Пользователь скрыл имя, 06 Января 2014 в 21:06, курсовая работа

Краткое описание

В данной работе произведён обзор научно-технической литературы по выращиванию фосфида индия. В работе выполнены инженерно-технологические расчеты материального баланса установки получения монокристалла InP.
Разработана технологическая схема выращивания фосфида индия n – типа, содержащего Тe в качестве легирующей примеси.
Также в разделе инженерных решений осуществляется обоснование выбора метода выращивания.

Содержание

Реферат 4
Введение 5
1 Литературный обзор 6
1.1 Структура фосфида индия 6
1.2 Физико-химические и электрические свойства 7
1.3 Методы получения поликристаллического фосфида индия 9
1.3.1 Метод горизонтальной направленной кристаллизации (ГНК). 9
1.3.2 Метод горизонтальной зонной плавки (ГЗП) 11
1.3.3 Метод кристаллизации расплава нестехиометрического состава в градиенте температуры 12
1.3.4 Синтез фосфида индия в квазигерметичных реакторах 13
1.3.5 Совмещенный процесс 14
1.4 Выращивание монокристаллов фосфида индия 15
1.4.1 Получение высокочистых нелегированных монокристаллов фосфида индия 20
1.4.2 Производство легированных монокристаллов фосфида индия 21
1.4.3 Получение мало- и бездислокационных монокристаллов фосфида индия 22
2 Инженерные решения 25
3 Технологический раздел 28
3.1 Описание технологической схемы получения монокристалла InP 28
3.2 Расчет материального баланса установки получения монокристалла n-InP 30
3.2.1 Расчёт времени цикла выращивания монокристалла InP 30
3.2.2 Расчёт единичной загрузки 33
3.2.3 Подбор тигля 37
3.2.4 Расчёт массы флюса B2O3. 38
3.2.5 Расчёт материального баланса процесса кристаллизации по основным компонентам. 38
3.2.6 Расчет распределения примеси по длине слитка и выхода годного продукта. 41
3.2.7 Расчет скорости производства и коэффициента загрузки оборудования 43
3.2.8 Расчет основных исходных компонентов на заданную программу выпуска 44
4 Охрана труда и окружающей среды 47
4.2 Защита от вредных (ядовитых) веществ 48
4.3 Защита от электрического тока 50
4.4 Правила безопасной работы с газами 50
Заключение 52
Список используемых источников 53

Вложенные файлы: 1 файл

kursach_PP.docx

— 371.27 Кб (Скачать файл)

                     3,

Количество атомов Te в остатке:

NTe = Cж·Vост = 3,03·1017·925,176=2,8·1020 ат

Масса Te в остатке:

MTeост = (NTe·MTe)/NA

MTeост = 2,8·1020·127,6/6,02·1023 = 0.0594 г.

Масса монокристаллического InP который расходуется в процессе выращивания кристалла равна массе були ,m InP монокр. = 7571,859г

Расход Тe на выращивание InP составляет:

MTe расх = mTe прих – mTe ост. = 0.0868 – 0.0594 =0.0274 г

MInPмонокр.+Te = mTe расх + mбули = 0.0274 +7571,859 = 7571,886 г

7571,886 г [mInPмонокр.] — 145.79 г/моль [M(InP)]

х [mIn] —114.8 г/моль [M(In)]

mIn =5962,36 г

mP = mInPмонокр. – mIn =7571,886 – 5962,36= 1609,525 г

       

Таблица 3.4

Результаты  расчета материального баланса

Приход

Расход

Компонент

Масса, г

Компонент

Масса, г

InPполикрист., в т. ч.

10600,603

InPмонокр+Te, в т. ч.

7571,886

In

8347,275

In

5962,36

P

2253,328

P

1609,525

InP+0,005%Te(лигатура) , в т. ч.

1735,913

Te

0,0274

In

1366,849

InPполикр+Te (лепёшка), в т. ч.

4764,657

P

368,978

In

3751,85

Te

0.0868

P

1012,8

   

Te

0,0594

Итого

12336,516

Итого

12336,516




 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3.2.6 Расчет распределения примеси по длине слитка и выхода годного продукта.

Разобьём  цилиндрическую часть монокристалла  на 10 точек .

Концентрацию  примеси в каждой точке рассчитываем по формуле:

                                Стж0·К(1-g)k-1 (3.19)

Для первой точки (l1 = 0)

m1 = mш + mкр = 21,128+435,558=456,686 г

Доля  закристаллизовавшегося кристалла:

Концентрация  примеси составляет:

Ст1 = 1,71·1017·0,4(1-0,0370)0,4-1 = 6,996·1016 см-3

Ст = 6,996·1016 – 5 ·1015 =6,496·1016 см-3

Удельное сопротивление:

ρ1 = 1/(1,6·10-19·6,496·1016·3700) = 0,026 Ом·см

Для второй точки (l = 1,5 см).

Объём выращенного  кристалла номинального диаметра составляет:

Масса выращенного  кристалла номинального диаметра на данном этапе составляет:

Δm = ΔV·ρкр

Δm = 117,75·4,78= 562,845 г

g2 = (456,686 +562,845)/12336,516 =0,0826

Ст2 = 1,71·1017·0,4(1-0,0826)-0,6 = 7,2·1016см-3

Ст = 7,2·1016 – 5·1015 =6,7·1016 см-3

ρ2 = 1/(1,6·10-19·6,7·1016·3700) = 0,0252 Ом·см

Значения  данных параметров в следующих точках рассчитываем аналогичным образом.

 

Таблица 3.5

 

L,мм

mкр, г

g

Cm·10 -16, см-3

ρ, Ом·см

1

0

456,686

0,037

6,496

0,026

2

15

1019,531

0,0826

6,7

0,0252

3

30

1582,376

0,128

6,92

0,0244

4

45

2145,221

0,174

7,17

0,0236

5

60

2708,248

0,219

7,43

0,0227

6

75

3270,911

0,265

7,73

0,0219

7

90

3833,756

0,311

8,05

0,0209

8

105

4396,601

0,356

8,41

0,02

9

120

4959,446

0,402

8,81

0,0192

10

135

5522,291

0,448

9,26

0,0182

11

150

6085,136

0,493

9,53

0,0177


 

 


 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Отклонение  по сопротивлению монокристалла  Pρ = 25%

ρ0 = 0,02 Ом·см

ρ + 25% = 0,02·1,25 = 0,025 Ом·см

ρ – 25% = 0,02 = 0,015 Ом·см

Длина годной части равна lг = 14 см.

Рассчитаем  выход годной части кристалла  по цилиндрической части Pц:

Рц = lг/lн.д.·100%

Рц =140/150·100% = 93,3%

Объём годной части монокристалла равен:

 

 

 

Масса годной части монокристалла:

mг = Vг·ρкр

mг = 1099·4,78 =5253,22 г

 

Выход годной части кристалла по буле:

                                    Рб=mг/mб·100% (3.20)

Рб = 5253,22/7571,859·100% = 69,37%

 

Выход годной части кристалла по загрузке:

Рз=mг/mз·100% (3.21)

Рз = 5253,22/10600,63·100% = 49,56%

 

3.2.7 Расчет скорости производства и коэффициента загрузки оборудования

Программная скорость:

               Vпрпрэф, (3.22)

Тэф=300 дней

 

 

Реальная  программа выпуска рассчитывается по формуле:

                   Ппрзбрпот+1/Рб), (3.23)

Ппр=800·(0,1+0,1+1/0,797)=1163,8 кг/год

 

Vпр=1163,8/300=3,88 кг/сутки

 

Технологическая скорость:

                                Vтех=mб\з/tц

Vтех=7271,859/56=0,135 kг/ч

Коэффициент загрузки:

Кз=Vпр/Vтех (3.24)

Кз =0,16/0,135=1,19=2

Для выполнения программы возьмем  две установки

Количество  слитков, выращиваемых за год:

                                      Z=Ппр/mб  (3.25)

Z=1163,8 /7,271859=160 слитков

 

 

  3.2.8 Расчет основных исходных компонентов на заданную программу выпуска

Объем выпуска  равен

                           Ппр*=Пз(Кпотпот*)+Пз (3.26)

Кпот=10%,

Кпот*=10%

Ппр*=800·(0,1+0,1)+800=960 кг

Kоэффициент использования лигатуры:

                               (3.27)

Клиг=0,0274/0,0868=0,316

Масса лигатуры равна:

                            mлиг= mилиг· Z·Клиг, (3.28)

где mлиг-масса лигатуры на один цикл, г

mлиг=1735,913·160·(1-0,316)=189.97 кг

С учётом потерь на предыдущих операциях:

mлиг=189,97·1,1=208,97 г

Масса загрузки поликристаллического InP:

                            mInP= Ппр*- mлиг (3.29)

mInP=960-208,97=751,024 кг

Количество In и P с учётом потерь на предыдущих операциях:

mIn=751,024·0,787·1.1=650,16 кг

mP=751,024·0.213·1.1=175,96 кг

Масса затравочного кристалла

                           mз= mзи·Z·Кпот (3.30)

mз=38,24·160·1,1=6,73 кг

Масса флюса равна:

mф= mфи·Z·Кпот

mф = 1,695·160·1,1 = 298,132кг

Норма расхода материала на 800 кг годного продукта

In : 650,16/800 = 0,813

P : 175.96/800 = 0,219

InP c 0.005% Te: 208.97/800 = 0,261

B2O3= 298,132/800 = 0.373

Затравочный кристалл: 6,73/800 = 0.0084

Таблица 3.5

Расход основных исходных компонентов  для производства слитков фосфида  индия

Материал

Масса поставок на 800 кг годного продукта, кг

Норма расхода, кг/кг

In

P

Лигатура InP c 0.005%Te

Флюс  B2O3

Затравочный кристалл (InP)

650,16

175,96

 

208,97

298,132

 

6,73

0,813

0,219

 

0,261

0,373

 

0,0084


 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4 Охрана труда и окружающей  среды

 

В Республике Беларусь, как и в любой развитой стране мира, вопросам охраны труда и охране окружающей среды уделяется исключительное внимание. Задачей охраны труда является сохранение здоровья трудящихся и предотвращение экономического ущерба, причиняемого травматизмом и профессиональными заболеваниями. Задача охраны окружающей среды заключается в том, чтобы не допустить ухудшения экологической обстановки среды обитания вредными токсичными веществами.

Охрана труда работающего проводится на предприятии в двух основных направлениях. Инженерная охрана труда обеспечивает контроль: за рациональной организацией производства и труда; за размещением  оборудования в помещениях, удовлетворяющим строительным и санитарным нормам, предъявляемым к данному виду производства; за безопасностью технологического процесса и действующего оборудования; за обеспечением работающих необходимыми средствами индивидуальной защиты.

Администрация предприятия должна постоянно контролировать соблюдение сотрудниками всех требований, содержащихся в инструкциях по охране труда, которые разрабатываются и утверждаются администрацией совместно с комитетом профсоюза предприятия.

Инструкция по технике безопасности составляется для каждого вида работы. Она определяет порядок для каждого вида работы, его обязанности и правила поведения в ходе ее выполнения. Инструкция по технике безопасности содержит указания по организации рабочего места, правила личной гигиены и способы оказания первой помощи пострадавшему. Инструкция по технике безопасности выдается каждому работающему под расписку и вывешивается на рабочем месте.

Инструктаж по технике безопасности проводят в несколько стадий: вводный; на рабочем месте; текущий; повторный; внеплановый.

К обслуживанию оборудования и работам, связанным с повышенной опасностью (высокое напряжение, высокое газовое давление, вредные вещества и др.), допускаются лица не моложе 18 лет.

         

КР 04 16 06 04 ПЗ

         

Изм.

Лист

№докум

Подп

Дата

Разработал

Злобина

   

Мероприятия по охране труда и окружающей среды

Лит.

Лист

Листов

Проверил

Богомазова

     

У

     
       

БГТУ

416060613

Н.контр.

Богомазова

   

Утверд.

Черник

   


 


 

 

4.2 Защита от вредных (ядовитых) веществ

 

В производстве монокристаллов, в том числе и  антимонида индия, используются исходные вещества и реагенты, многие из которых обладают токсическими свойствами.

По действующей  классификации установлено четыре класса вредных веществ: 1 - вещества чрезвычайно опасные; 2 - вещества высоко опасные; 3 - вещества умеренно опасные; 4 - вещества мало опасные.

Самыми опасными из них являются кислоты (HNO3, HF, HCl, Н2О2), а также сам InSb. Антимонид индия обладает токсическими свойствами за счет сурьмы, входящей в его состав. Сурьма относится ко второму классу вредных веществ. Аэрозоли (смесь воздуха и пыли) сурьмы образуются при ее измельчении, а оксиды Sb2O3 b Sb2O5 - при сгорании металлической сурьмы на воздухе, которое происходит при доступе воздуха к содержащим сурьму расплавам. Это имеет место при разгерметизации рабочих камер установок для зонной плавки и выращивании монокристаллов стибата индия. При кислотной обработке монокристалла InSb образуется летучий гидрид сурьмы.

ПДК в рабочих помещениях: сурьмы и оксида сурьмы (III) не должно превышать 0.5 мг/м3; оксида сурьмы (V)  - 0.2 мг/м3; стибина сурьмы - 0.1 мг/м3.

Отравления сурьмой и ее соединениями оказывают токсическое действие: отравление желудочно-кишечного и  нервнопаралитического характера. Симптомы: легкое отравление - сладковатый привкус во рту, усталость, озноб, сменяющийся повышением температуры вплоть до 40 °С, сильная потливость, боли в мышцах, головная боль, тошнота и рвота. Лихорадочное состояние может длиться несколько дней. При тяжелых отравлениях возникают рвота и понос, сильные боли в животе, потеря сознания и судороги.

Правила работы с соединениями сурьмы: 1. использование средства индивидуальной защиты (противогазы, респираторы, перчатки); 2. соблюдение мер личной гигиены; 3. соблюдение правил обращения с отходами.

Для оказания первой помощи при отравлении сурьмой или ее соединениями следует:

1 - дать пострадавшему теплое  молоко;

2 - промыть желудок;

3 - дать укрепляющие сердечную  деятельность лекарства (кофеин, камфара и др.), а также мочегонные и патогенные средства (аспирин, пирамидон и др.).

В полупроводниковом производстве, особенно на операции компоновки, широко применяют различные реактивы и щелочи, а также органические растворители.

Общие правила работы с химическими  реактивами:

1) количество находящихся на  рабочем месте реактивов не  должно превышать их суточной потребности;

Информация о работе Технология получения монокристаллического слитка InP n-типа