Фотолитография — основа планарной технологии

Образцы-прототипы и производственные образцы кремниевых интегральных схем для воспроизводства были получены из США. Работы проводились НИИ -35 (директор Трутко) и Фрязинским заводом (директор Колмогоров) по оборонному заказу для использования в автономном высотомере системы наведения баллистической ракеты. Разработка включала шесть типовых интегральных кремниевых планарных схем серии ТС -100 и с организацией опытного производства заняла в НИИ -35 три года (с 1962 по 1965 год). Ещѐ два года ушло на освоение заводского производства с военной приѐмкой во Фрязино (1967 год).[1]

Введение 3
Фотолитография — основа планарной технологии 4
Производство интегральные схемы 6
2.1 Создания чипов. 13
3. Производство подложек. 15
3.1 Легирование, диффузия 16
3.2 Создание маски 16
3.3 Процесс фотолитографии подложки 17
3.4 Травление и очистка 19
3.5 Тест подложек 20
3.6 Разрезание подложки 20
3.7 Крепление кристалла 21
3.8 Проводное соединение 21
3.9 Упаковка 22
3.10 Тестирование процессора 22
Заключения 23
Список литературы 25