Фотолитография
Реферат, 07 Ноября 2014, автор: пользователь скрыл имя
Краткое описание
Литография – это процесс сформирования в актиночувствительном слое, нанесенном на поверхность подложек, рельефного рисунка, повторяющего топологию полупроводниковых приборов или ИМС, и последующего переноса этого рисунка на подложки.
Процесс литографии состоит из двух стадий:
— формирование необходимого рисунка элементов в слое актиночувствительного вещества (резиста) его экспонированием и проявлением;
— травления нижележащего технологического слоя (диэлектрика, металла) через сформированную технологическую маску или непосредственного использования слоя резиста в качестве топологической маски при ионном легировании.
Содержание
Введение
1.Формирование слоя фоторезиста. Фоторезисты и их свойства………………………………………………………………5
2.Формирование защитного рельефа………………………….10
3.Травление подложки с защитным рельефом и удаление защитного рельефа……………………………………………….14
4.Организация производства фотолитографического процесса……………………………………………………………..15
5.Заключение……………………………………………………….19
6.Список использованных источников………………………..20