Влияние режимов электрохимического осаждения на структуру и свойства In-Ni покрытий

Автор работы: Пользователь скрыл имя, 10 Декабря 2012 в 18:11, дипломная работа

Краткое описание

Объект исследования и разработки – покрытия индий – никель.
Ключевые слова - электролитические покрытия, электролиз, никель, индий, покрытия In - Ni, структура, пленка.
Цель работы – исследование структуры покрытий In - Ni в зависимости от режимов электроосаждения.
Метод исследования и аппаратура – для изучения структуры покрытий использовалась атомно – силовая микроскопия. Структуры поверхности были получены с помощью сканирующего зондового микроскопа SOLVER P47.

Содержание

Задание на преддипломную практику
2
Реферат
Введение
1 Литературный обзор
Система индий – никель
Диаграмма состояния индий-никель
Кристаллическая структура системы индий-никель
Физические и механические свойства системы In-Ni
Электролитическое осаждение покрытий никель-индий
Составы электролитов и условия осаждения покрытий никель-индий
Кинетика электроосаждения покрытий никель – индий
Состав, структура и свойства покрытий никель – индий
Коррозионная стойкость покрытий никель-индий
Исследование коррозионной стойкости покрытий никель – индий
Физико – механические и коррозионно – электромеханические свойства никелевых покрытий, легированных индием
1.4 Электроосаждение покрытий никель-индий из сульфатно –
хлоридного электролита
Методика эксперимента
Методика получения образцов
Рентгеновский метод определения фазового состава
Изучение морфологии поверхности покрытий
Результаты эксперимента
Электрохимическое осаждение никелевых покрытий
Влияние параметров электроосаждения на структуру покрытий In-Ni
Влияние плотности катодного тока на структуру покрытия In-Ni
Влияние содержания индия в электролите на структуру покрытия In-Ni
Рентгеноструктурный анализ
Выводы по экспериментальной части
Основные положения по организации выполнения научного исследования
Организация и планирование НИР
Краткая характеристика НИР
Характеристика выполнения этапов НИР
Определение трудоемкости выполнения темы и отдельных элементов
Расчет пропускной способности научного подразделения
Расчет численности сотрудников научного подразделения
Разработка сетевого плана – графика выполнения работ по теме
Расчленение процессов выполнения НИР на работы и определение длительности этих работ
Определение процента нарастания технической готовности НИР
Определение затрат и рыночной цены на выполнение научно – исследовательской работы
Составление штатного расписания научного подразделения. Расчет основной и дополнительной заработной платы исполнителей темы, начисления заработной платы
Расчет эффективности НИР
Расчет показателей оценки деятельности научно – исследовательской организации
Технико – экономическое обоснование кредитного проекта
Выводы по организационно – экономической части
Индивидуальное задание
Безопасность и экологичность
Безопасность производственной среды
Анализ условий труда
Микроклимат производственной среды
Производственное освещение

Вложенные файлы: 1 файл

Диплом Пахомова docx.docx

— 2.31 Мб (Скачать файл)

                                       в                                         г

а - изображение поверхности в виде фазового контраста; б -  профилограмма поверхности по оси х; в - профилограмма поверхности по оси y; г - гистограмма распределения неровностей поверхности

Рисунок 3.4

 

Приведенные зависимости  характерны для покрытия, полученного  из электролита, в котором отсутствует  In2(SO4)3.

Рисунку 3.4 б соответствует профилограмма по оси x, на ней представлен рельеф поверхности. По оси абсцисс отложена ширина изученной зоны, по оси ординат – высота зерна. Исходя из рисунка видно, что при ширине изученной зоны (l) от 0 до 0,5 мкм, высота зерна (h) варьируется от 49 до 70 нм, при l = 0,5 - 1,0 мкм высота составляет 57 - 73 нм,  при l =1,0 - 1,5мкрн h = 87 - 100 нм, при                      l= 1,5 - 2,0 мкм h = 63 - 83 нм.

На рисунке 3.4 в представлена профилограмма поверхности по оси y. По рисунку видно, что при l = 0 - 0,5 мкрн, высота зерна составляет 53 - 70 нм, при l = 0,5 - 1,0 мкм h = 69 – 105 нм, при l = 1,0-1,5 мкм h = 80-114 нм, при l = 1,5-2,0 нм      h = 64 – 76 мкм.

                                       а                                         б

                                       в                                        г

а - изображение поверхности в виде фазового контраста; б - профилограмма поверхности по оси х; в - профилограмма поверхности по оси y; г - гистограмма распределения неровностей поверхности

Рисунок 3.5

Приведенные зависимости  характерны для покрытия с содержанием    In2(SO4)3 = 1 г/л.

Рисунку 3.5 б соответствует профилограмма по оси x, на ней представлен рельеф поверхности. По оси абсцисс отложена ширина изученной зоны, по оси ординат – высота зерна. Исходя из рисунка видно, что при ширине изученной зоны (l) от 0 до 0,5 мкм, высота зерна (h) варьируется от 35 до 77 нм, при l = 0,5 - 1,0 мкм высота составляет 54-77 нм,  при l = 1,0-1,5 мкм h = 23 - 44 нм, при l= 1,5 - 2,0 мкм h = 44 - 82 нм.

На рисунке 3.5 в представлена профилограмма поверхности по оси y. По рисунку видно, что при l = 0 - 0,5 мкм, высота зерна составляет 45,5 - 76 нм, при       l = 0,5 - 1,0 мкм h = 46 – 62 нм, при l = 1,0 - 1,5 мкм h = 59 - 93 нм, при l = 1,5 - 2,0 нм h = 62 – 73 мкм.

                                         а                                    б

                                        в                                        г

а - изображение поверхности в виде фазового контраста; б - профилограмма поверхности по оси х; в – профилограмма поверхности по оси y; г - гистограмма распределения неровностей поверхности

Рисунок 3.6

Приведенные зависимости  характерны для покрытия с содержанием     In2(SO4)3 = 2 г/л.

Рисунку 3.6 б соответствует профилограмма по оси x, на ней представлен рельеф поверхности. По оси абсцисс отложена ширина изученной зоны, по оси ординат – высота зерна. Исходя из рисунка видно, что при ширине изученной зоны (l) от 0 до 0,5 мкм, высота зерна (h) варьируется от 36 до 59 нм, при l = 0,5 - 1,0 мкм высота составляет 32 - 48 нм,  при l =1,0 - 1,5 мкм h = 37 - 47 нм, при l= 1,5 - 2,0 мкм h = 48 - 53 нм.

На рисунке 3.6 в представлена профилограмма поверхности по оси y. По рисунку видно, что при l = 0 - 0,5 мкм, высота зерна составляет 27 - 62 нм, при        l = 0,5 - 1,0 мкм h = 37 – 56 нм, при l = 1,0 - 1,5 мкм h = 34 - 47 нм, при l = 1,5 - 2,0 нм h = 36 – 44 мкм.

                                        а                                      б

                                          в                                     г

а - изображение поверхности в виде фазового контраста; б - профилограмма поверхности по оси х; в - профилограмма поверхности по оси y; г - гистограмма распределения неровностей поверхности

Рисунок 3.7

Приведенные зависимости  характерны для покрытия с содержанием    In2(SO4)3 = 4 г/л.

Рисунку 3.7 б соответствует профилограмма по оси x, на ней представлен рельеф поверхности. По оси абсцисс отложена ширина изученной зоны, по оси ординат – высота зерна. Исходя из рисунка видно, что при ширине изученной зоны (l) от 0 до 0,5 мкм, высота зерна (h) варьируется от 17 до 32 нм, при l = 0,5 - 1,0 мкм высота составляет 23 - 37 нм,  при l =1,0 - 1,5 мкм h = 17 - 43 нм, при l= 1,5 - 2,0 мкм h = 24 - 38 нм.

На рисунке 3.7 в представлена профилограмма поверхности по оси y. По рисунку видно, что при l = 0 - 0,5мкм, высота зерна составляет 20 - 35 нм, при          l = 0,5 - 1,0 мкм h = 17 – 31 нм, при l = 1,0 - 1,5 мкм h = 19 - 36 нм, при l = 1,5 - 2,0 нм h = 22 – 46 мкм.

                                         а                                     б

                                          в                                   г

а - изображение поверхности в виде фазового контраста; б - профилограмма поверхности по оси х; в - профилограмма поверхности по оси y; г - гистограмма распределения неровностей поверхности

Рисунок 3.8

Приведенные зависимости  характерны для покрытия с содержанием    In2(SO4)3 = 8 г/л.

Рисунку 3.8 б соответствует профилограмма по оси x, на ней представлен рельеф поверхности. По оси абсцисс отложена ширина изученной зоны, по оси ординат – высота зерна. Исходя из рисунка видно, что при ширине изученной зоны (l) от 0 до 0,5 мкм, высота зерна (h) варьируется от 51 до 66 нм, при l = 0,5 - 1,0 мкм высота составляет 49 - 57 нм,  при l =1,0 - 1,5мкм h = 51 - 59 нм, при l= 1,5 - 2,0 мкм h = 46 - 54,5 нм.

На рисунке 3.8 в представлена профилограмма поверхности по оси y. По рисунку видно, что при l = 0 - 0,5мкрн, высота зерна составляет 52 - 67,5 нм, при l = 0,5 - 1,0 мкм h = 49 – 59 нм, при l = 1,0 - 1,5 мкм h = 46 - 59 нм, при l = 1,5 - 2,0 нм   h = 71 – 83 мкм.

                                        а                                       б

                                         в                                     г

а - изображение поверхности в виде фазового контраста; б - профилограмма поверхности по оси х; в - профилограмма поверхности по оси y; г - гистограмма распределения неровностей поверхности

Рисунок 3.9

Приведенные зависимости  характерны для покрытия с содержанием    In2(SO4)3 = 12 г/л.

Рисунку 3.9 б соответствует профилограмма  по оси x, на ней представлен рельеф поверхности. По оси абсцисс отложена ширина изученной зоны, по оси ординат – высота зерна. Исходя из рисунка видно, что при ширине изученной зоны (l) от 0 до 0,5 мкм, высота зерна (h) варьируется от 105 до 123 нм, при                         l = 0,5 - 1,0 мкм высота составляет 114 - 119 нм,  при l =1,0 - 1,5 мкм h = 113 - 127 нм, при l= 1,5 - 2,0 мкм h = 110 - 117 нм.

На рисунке 3.9 в представлена профилограмма поверхности по оси y. По рисунку видно, что при l = 0 - 0,5 мкм, высота зерна составляет 117 - 133 нм, при      l = 0,5 - 1,0 мкм h = 103 – 127 нм, при l = 1,0 - 1,5 мкм h = 114 - 123 нм, при                 l = 1,5 - 2,0 нм h = 104 – 127 мкм.

Из данных, представленных на рисунках 3.4 - 3.9 видно, что топология  поверхности полученных пленок сильно развитая. Это можно связать с  островковыми зародышами осаждаемой системы  в начальные моменты времени. Напряженность электрического поля на выступающих над катодами островками становится больше, чем над свободным  от осадка катодом. Рост катодной пленки в островковой части начинает опережать рост основной пленки, что  приводит к возникновению развитой поверхности.

На рисунке 4.0 представлена трехмерная диаграмма топологии поверхности.

Рисунок 4.0 – Трехмерная диаграмма топологии поверхности

 

На рисунке 4.1 представлена зависимость максимального размера  зерна, составляющего 75 – 170 нм, от содержания In2(SO4)3 в растворе электролита. Данная зависимость является результирующей огибающей кривой, согласно данным трехмерной диаграммы топологии поверхности Ni-In пленок.


 

Рисунок 4.1 – Зависимость  размера частиц от концентрации In2(SO4)3

 

На рисунке 4.1 видно, что  при отсутствии в электролите  сульфата индия (III), максимальный размер зерна равен 130 нм. При введении In2(SO4)3 в размере 1, 2, 4, 8, 12 г/л размер зерна составляет 105, 75, 70,100, 170 нм.


Рисунок 4.2 – Зависимость числа частиц (N) от концентрации In2(SO4)3

 

На рисунках 4.1, 4.2 видно, что при отсутствии в электролите In2(SO4)3, максимальное число частиц (N), соответствующее размеру 70 нм, равняется 5300. При увеличении содержания сульфата индия (III) от 1 до 4 г/л максимальный размер частиц уменьшается от 70 до 23 нм, а их число варьируется от 4000 до 9500. Далее при увеличении In2(SO4)3 до 12 г/л максимальный размер частиц достигает 105 нм, а N = 8500. Таким образом результаты эксперимента выявили, что из изученных составов электролита оптимальными является концентрация In2(SO4)3 = 4 г/л. Электролит никелирования с данным содержанием сульфата индия (III) позволяет получать зернистые и более равномернозернистые Ni – In покрытия, это обеспечивает лучшие физико – механические свойства (свариваемость, коррозионную стойкость).

 

3.3 Рентгеноструктурный анализ

 

Рентгеноструктурные исследования были проведены по вышеописанной  методике с использованием медного  излучения. Результаты расчета рентгенограмм  сведены в таблицу 3.1. Анализ полученных результатов показывает, что при содержании в электролите In2(SO4)3 в количестве менее 2 г/л на катоде осаждается пленка никеля, присутствие чистого индия и его соединений с никелем не отмечено. С увеличением содержания сульфата индия (III) в растворе до 2 г/л на катоде осаждается чистый никель и интерметаллиды: InNi2, InNi3, In3Ni2, η - In27Ni10. При увеличении содержания до 4 г/л в составе катодной пленки появляется чистый никель. В электролитически осажденных пленках с содержанием индия 8 г/л появляется дополнительная фаза ε - InNi . Увеличение содержания сульфата индия (III) до 12 г/л полностью завязывает никель в химические соединения, линия, соответствующая чистому никелю – отсутствует. В диаграммах равновесного состояния [13, 44] отсутствует фаза η – In27Ni10,  однако, по данным американской международной добровольной организации, разрабатывающей стандарты для материалов ASTM (American Society for Testing and Materials) в системе Ni - In указана интерметаллидная фаза η – In27Ni10, с тетрагональной решеткой  [5]. Рентгеноструктурный анализ проведенный на наших образцах выявил данную фазу в системах, синтезированных в электролитах с содержанием In2(SO4)3  от 2 г/л и более. По-видимому, наличие данной фазы зависит от способа получения системы In - Ni или она является неравновесной. В данной работе система создавалась электролитическим путем при комнатной температуре. Отсутствие высоких температур при изготовлении сплава In - Ni очевидно способствует стабилизации фазы η – In27Ni10. Можно предположить, что η - фаза должна образовываться при любых методах синтеза, исключающих нагрев.

 

Таблица 3.1 – Результаты расчета рентгенограмм

Ө

sinӨ

d/n

фаза

Интенсивность

1

2

3

4

5

6

7

Образец №1 (4 г/л)

1

30,4

15,2

0,26218

2,9369

η-In27Ni10

Средняя

2

32,9

16,45

0,28317

2,71921

In

Средняя

3

38,88

19,44

0,3328

2,3137

γ-InNi3

Средняя

4

39,16

19,58

0,3351

2,29782

In

Средняя

5

43,3

21,65

0,3689

2,08728

In3Ni2

Слабая

6

45,42

22,71

0,38606

1,9945

Ni

Слабая

7

53,75

26,87

0,45196

1,70369

InNi2

Слабая

8

66,38

33,19

0,5474

1,40664

Ni

Очень сильная

9

67,36

33,68

0,5545

1,388638

η-In27Ni10

Слабая

10

79,86

39,93

0,6418

1,19975

Ni

средняя

Образец№2 (1 г/л In)

1

37,5

18,75

0,32143

2,39554

Ni

Очень слабая

2

45,42

22,71

0,38606

1,994508

Ni

Очень слабая

3

66,38

33,19

0,54741

1,406623

Ni

Очень сильная

4

74,33

37,16

0,60404

1,27475

Ni

Очень слабая

5

79,67

39,84

0,64064

1,201923

Ni

Слабая

Образец№3 (2 г/л In)

1

37,44

18,72

0,32094

2,3992

γ-InNi3

Слабая

2

45,42

22,71

0,38606

1,9945

Ni

Слабая

3

53,86

26,93

0,4529

1,70015

InNi2

Слабая

4

66

33

0,54463

1,4138

Ni

Очень сильная

5

67,36

33,68

0,55455

1,38851

η-In27Ni10

Слабая

6

79,67

39,84

0,64064

1,20192

Ni

Слабая

Информация о работе Влияние режимов электрохимического осаждения на структуру и свойства In-Ni покрытий